Установка плазмохимического осаждения создана в НИИТМ в Зеленограде

Российское предприятие НИИТМ (Зеленоград, Московская область) завершило разработку и выпустило опытный образец первой отечественной установки плазмохимического осаждения на 300-мм кремниевых пластинах. На разработку и создание действующей первой российской установки ушло менее 4 лет (с 2021 года). Новое оборудование основано на модульном принципе, гибко адаптируется под конкретные производства. В НИИТМ специалисты создали необходимые для установки систему управления и ПО. Испытания первой российской установки плазмохимического осаждения пройдут в НИИ молекулярной электроники (НИИМЭ, Зеленоград) в течение 2025 года. Появление российского оборудования для работы с кремниевыми пластинами диаметром 300 миллиметров — важный шаг на пути создания отечественной микроэлектронной промышленности.